Perundingan produk
Alamat e -mel anda tidak akan diterbitkan. Bidang yang diperlukan ditandakan *
Bahan sasaran sputtered mempunyai ciri-ciri kesucian yang tinggi, ketumpatan tinggi, pelbagai komponen dan seragam, yang umumnya terdiri daripada sasaran kosong dan plat belakang. Sasaran kosong tergolong dalam bahagian teras bahan sasaran sputtering dan bahan sasaran yang dibombardir oleh balok ion berkelajuan tinggi. Selepas sasarannya dipengaruhi oleh ion, atom -atom di permukaan sasarannya dibuang dan didepositkan pada substrat untuk membentuk filem nipis elektronik. Oleh kerana kekuatan logam kesucian yang rendah, sasaran sputtering perlu menyelesaikan proses sputtering dalam voltan tinggi dan mesin vakum yang tinggi Pengeluar mesin salutan plasma china persekitaran. Sasaran sputtering kosong logam kesucian ultra-tinggi perlu terikat dengan plat belakang melalui proses kimpalan yang berbeza. Plat belakang terutamanya memainkan peranan menetapkan sasaran sputtering, dan perlu mempunyai kekonduksian elektrik dan terma yang baik.
Menurut bahan -bahan yang berbeza yang digunakan, sasaran sputtering boleh dibahagikan kepada sasaran bahan tunggal / bukan logam, sasaran aloi dan sasaran kompaun. Teknologi pemendapan sputtering mempunyai kebolehulangan yang baik, ketebalan filem boleh dikawal, boleh diperolehi di kawasan besar bahan substrat dengan ketebalan seragam. Filem -filem yang disediakan mempunyai kelebihan kesucian yang tinggi, kekompakan yang baik dan lekatan yang kuat dengan bahan substrat, yang telah menjadi salah satu teknologi utama untuk menyediakan bahan -bahan filem nipis.
Logam kesucian ultra tinggi dan sasaran sputtering adalah komponen penting bahan elektronik. Rantaian industri sasaran sputtering terutamanya termasuk pembersihan logam, pembuatan sasaran, pelapisan sputtering dan aplikasi terminal, di antaranya sasaran pembuatan dan salutan sputtering adalah pautan utama dalam rantaian industri sasaran keseluruhan sputtering.
Penyucian logam hulu adalah terutamanya dari bijih logam utama semula jadi. Kesucian logam umum boleh mencapai 99.8%, dan kesucian sasaran sputtering perlu mencapai 99.999%.
Jika anda ingin mengetahui lebih lanjut, anda juga boleh menghubungi kami.
Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.
Sara
Telefon: 86-15867869979
E -mel: [email protected]
WeChat: 15867869979
WhatsApp: 86-15867869979
www.pvd-coatingmachine.com
Alamat e -mel anda tidak akan diterbitkan. Bidang yang diperlukan ditandakan *